

Messeneuheiten zur
PRODUCTRONICA 2017
Messegelände München
Negativ-Photoresist Atlas 46
Die wirkungsvolle Alternative zum SU-8
Die hervorragenden Eigenschaften des SU-8 sind
allen Anwendern der Mikrosystemtechnik bekannt.
Der neue Negativresist
Atlas 46 S
(
S
olid) von
Allresist ist einfach verarbeitbar mit hoher Repro-
duzierbarkeit der Eigenschaften und großer Wi-
derstandsfähigkeit der Resiststrukturen gegenüber
allen gängigen Lösemitteln. Damit ist
Atlas 46 S
für alle Anwendungen geeignet, bei denen die
Schicht permanent und widerstandsfähig auf dem
Substrat verbleiben soll.
Atlas 46 R
(
R
emoving) hat spezielle Zusätze, die
den Vernetzungsgrad verringern. Damit sind die
Strukturen mit kommerziellen Removern wieder
entfernbar. Dies erweitert die Anwendungsmög-
lichkeiten in der Photolithographie. Außerdem
kann der Lack für galvanische Anwendungen ge-
nutzt werden, da er auch nach der Metallisierung
einfach entfernbar ist.
Mit einer 3. Version des Atlas 46, die sich bei einer
Wellenlänge von
>
g-line (436 nm) belichten lässt,
ist der selektive Aufbau von Multilayern möglich.
In der Kombination zwei verschiedener Varianten
können dreidimensionale Strukturen generiert
werden: Zuerst wird
Atlas 46 S
belichtet (
λ
1
<
365 nm) und mittels Temperung vernetzt. Dann
wird der SX AR-N 4600-10/10 auf den ersten
Lack beschichtet, (mit
λ
2
>
380 nm) belichtet und
die Doppelschicht getempert. Bei der Entwicklung
werden die nicht belichteten Flächen des Toplayers
und die nicht belichteten Stellen des Bottomlayer
unter der zweiten Schicht herausgewaschen.
Prozessbild 3D-Mehrlagensystem Atlas 46
www.allresist.deInnovation
Kreativität
Kundenspezifische Lösungen
Atlas 46 R 5 µm line & space, Strukturen sind leicht entfernbar
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